金属有机气相沉积
ZnO films can be deposited by a variety of deposition techniques. Magnetron sputtering, metal-organic chemical vapor deposition, pulsed laser deposition, molecular beam epitaxy and reactive e-beam evaporation are main methods for the preparation of high-quality ZnO films with strong c-axis orientation.
在已开发的众多生长技术中,磁控溅射、金属有机物气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、电子束反应蒸镀法是生长出高度c轴择优取向优质薄膜的主要方法。
Monocrystalline ZnO films with mosaic structure are successfully grown on Si ( 111) substrate by atmospheric-pressure metal-organic chemical vapor deposition ( MOCVD).
用常压金属化学气相沉积法(MOCVD)在Si(111)衬底上制备了马赛克结构ZnO单晶薄膜。
英语网 · 双语娱乐资讯
英语网 · 高考英语
英语网 · 英语词汇
英语网 · 四六级英语